El XF 35 mm f/1,4 R de FUJIFILM es un objetivo de longitud normal rápido y flexible, equivalente a un objetivo de 53 mm que se caracteriza por su brillante apertura máxima de f/1,4. Este diseño es beneficioso para trabajar en condiciones de iluminación difíciles y también ofrece un mayor control sobre la profundidad de campo para aislar el objeto y utilizar técnicas de enfoque selectivo. El diseño óptico emplea un elemento asférico, que reduce la distorsión y las aberraciones esféricas para lograr una mayor nitidez y una reproducción precisa. También cuenta con un revestimiento Super EBC, que reduce los destellos y las imágenes superpuestas para mejorar el contraste y la fidelidad del color.
Especificaciones Del FUJIFILM XF 35 Mm F/1,4 R
Especificaciones clave
Longitud focal
35 mm (equivalente a 35 mm: 53 mm)
Apertura máxima
f/1,4
Montura del lente
Fujifilm X
Cobertura del formato de lente
APS-C
Tipo de enfoque
Enfoque automático
Estabilización de imagen
No
Tamaño del filtro
52 mm (delantero)
Apertura máxima
f/1,4
Apertura mínima
F 16
Montura del lente
Fujifilm X
Cobertura del formato de lente
APS-C
Punto de vista
44,2°
Distancia mínima de enfoque
11,02" / 28 cm
Aumento máximo
0,17x
Diseño óptico
8 elementos en 6 grupos
Cuchillas de diafragma
7, redondeado
Tipo de enfoque
Enfoque automático
Estabilización de imagen
No
Tamaño del filtro
52 mm (delantero)
Dimensiones (ø x L)
2,56 x 2,16" / 65 x 54,9 mm
Peso
6,6 onzas/187 gramos
Información del embalaje
Peso del paquete
1,15 libras
Dimensiones de la caja (LxAnxAl)
6,6 x 4,1 x 3,9
Características principales
Lente con montura X/formato APS-C
53 mm (equivalente a 35 mm)
Rango de apertura: f/1.4 a f/16
Un elemento asférico
Recubrimiento Super EBC
Diafragma redondeado de 7 hojas
El XF 35 mm f/1,4 R de FUJIFILM es un objetivo de longitud normal rápido y flexible, equivalente a un objetivo de 53 mm que se caracteriza por su brillante apertura máxima de f/1,4. Este diseño es beneficioso para trabajar en condiciones de iluminación difíciles y también ofrece un mayor control sobre la profundidad de campo para aislar el objeto y utilizar técnicas de enfoque selectivo. El diseño óptico emplea un elemento asférico, que reduce la distorsión y las aberraciones esféricas para lograr una mayor nitidez y una reproducción precisa. También cuenta con un revestimiento Super EBC, que reduce los destellos y las imágenes superpuestas para mejorar el contraste y la fidelidad del color.
